IBM mejora técnica de fabricación de chips


Investigadores de IBM Research han anunciado que han encontrado una manera para mejorar el proceso clave de la fabricación de chips para generar circuitos aún más pequeños. Han podido crear líneas más pequeñas de alta calidad utilizando Litografía Óptica DUV (Deep-UltraViolet). El espacio entre los rieles es de apenas 29.9 nanómetros, un tercio de los producidos actualmente en masa. Un nanómetro equivale a la mil millonésima parte de un metro.

Al respecto de esta nueva técnica, que podría extender la conocida "Ley de Moore", comenta el Dr. Robert D. Allen, Director de materiales litográficos del IBM Research de Almaden:

Nuestro objetivo es llevar la litografía óptica tan lejos como podamos para que la industria no tenga que moverse hacia alguna alternativas costosa a menos que sea absolutamente necesario. Este resultado es la más fuerte evidencia hasta fecha de que la industria puede tener al menos siete años para respirar antes que cualquier cambio radical en las técnicas de fabricación de chips llegara a ser necesario.

Mayor información en: IBM Research demonstrates path for extending current chip-making technique.

Acerca de Willy Mejia

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